Μετάβαση στο περιεχόμενο
Toggle navigation
Γλώσσα
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
Όλα τα πεδία
Τίτλος
Συγγραφέας
Θέμα
Ταξιθετικός Αριθμός
ISBN/ISSN
Ετικέτα
Αναζήτηση
Σύνθετη
Handbook of chemical vapor dep...
Τεκμήρια
Εμφάνιση παραπομπής
Αποστολή με SMS
Αποστολή με email
Αποθήκευση
Αποθήκευση σε RefWorks
Αποθήκευση σε EndNoteWeb
Αποθήκευση σε EndNote
Handbook of chemical vapor deposition (CVD) : principles, technology and applications /
Κύριος συγγραφέας:
Pierson, Hugh O.
Μορφή:
Βιβλίο
Γλώσσα:
English
Έκδοση:
Park Ridje, NJ. :
Noyes Publications,
c1992
Θέματα:
Vapor-plating
Τεκμήρια
Περιγραφή
Παρόμοια τεκμήρια
Λεπτομερής προβολή
Παρόμοια τεκμήρια
Diamond chemical vapor deposition : : nucleation and early growth stages /
ανά: Liu, Huimin
Έκδοση: (1995)
Growth kinetics and barrier properties of atmospheric pressure chemical vapor deposited silicon dioxide thin films : a thesis /
ανά: Chapple - Sokol, Jonathan Daniel
Έκδοση: (1988)
Atmospheric pressure chemical vapor deposition of tin oxide films and the surface photovoltage measurements of amorphous silicon /
ανά: Proscia, James William
Έκδοση: (1988)
Vapor pressure of the chemical elements /
ανά: Nesmeyanov, A. N.
Έκδοση: (1963)
Optimization of bubbler design in metalorganic chemical vapor deposition processes
ανά: Σακελλάρη, Γεωργία Ν., κ.ά.
Έκδοση: (1970)
×
Φορτώνει......