Οπτοηλεκτρονικές ιδιότητες transistor επίδρασης πεδίου από γραφένιο

Στόχος της παρούσας διπλωματικής αποτέλεσε η μελέτη των Field Effect Transistor Γραφενίου με back gate (ηλεκτρόδιο πύλης στο υπόστρωμα). Συγκεκριμένα σχεδιάσθηκε μάσκα λιθογραφίας για τα GFET, εν συνεχεία ακολούθησε η κατασκευή αυτών στον καθαρό χώρο του Ινστιτούτο Νανοεπιστήμης και Νανοτεχνολογ...

Πλήρης περιγραφή

Κύριοι συγγραφείς: Κοκαβέσης, Μάρκος, Kokavesis, Markos
Άλλοι συγγραφείς: Τσαμάκης, Δημήτριος
Μορφή: bachelorThesis
Γλώσσα:Greek
Έκδοση: Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο. Σχολή Ηλεκτρολόγων Μηχανικών και Μηχανικών Υπολογιστών. Τομέας Ηλεκτρομαγνητικών Εφαρμογών Ηλεκτροοπτικής και Ηλεκτρονικών Υλικών 2016
Θέματα:
Διαθέσιμο Online:http://dspace.lib.ntua.gr/handle/123456789/43949